TDL レーザーガス分析装置

TDLレーザーガス分析装置の基本機能と技術的利点

• 高い選択性と感度： 特定のガス吸収スペクトル線をターゲットにすることで、他の成分からの干渉を回避し、ppm または ppb レベルでの検出が可能になります。
• リアルタイム応答:応答時間は通常、ミリ秒から数秒の範囲であるため、動的なプロセスのリアルタイム監視に適しています。
• 前処理不要/メンテナンス不要:一部のモデルは現場での設置をサポートしており、複雑なガス前処理が不要になり、メンテナンスコストが削減されます。
• 高温・高圧耐性：過酷な産業環境に適しており、ボイラー、窯、パイプライン内での直接測定が可能です。

TDLレーザーガス分析装置の応用分野

• 燃焼プロセスの最適化： 発電所のボイラー、セメント窯、製鋼炉内のO₂、CO、CH₄などをリアルタイムで監視し、燃焼効率を高めてエネルギー消費を削減します。
• 環境排出モニタリング： 排出規制を満たすために、排気ガス中の NH₃、HCl、HF などの汚染物質を監視します。
• 化学および石油化学産業: 生産の安全性を確保するためのプロセス制御およびガス漏れ検出に使用されます。
• 半導体およびハイテク製造： 微量不純物を検出し、高純度ガス環境を確保します。
• 水素と新エネルギー： 水素製造および燃料電池の動作における不純物レベルを監視します。
• 長期安定性:ドリフトが最小限で長寿命のレーザー光源を備え、信頼性の高い長期動作を保証します。