イントロダクション
必要に応じて、フッ化水素(HF)濃度をppb、ppmから%まで測定します。
フッ化水素(HF)ガス分析装置は、産業現場および環境現場におけるHFガス濃度測定のための包括的なソリューションです。TDLAS技術を採用し、低濃度でも高精度かつ高確度でフッ化水素(HF)ガス濃度を測定します。高度な光学プラットフォームを搭載し、長期間にわたって信頼性の高い測定を実現するとともに、使いやすさと設置の容易さを追求した設計となっています。
☑ ESE-LASER-HF-300WM オンラインHFガスモニタリングシステム
☑ ESE-LASER-HF-300P ポータブル TDL HF ガス分析装置
☑ ESE-LASER-HF-300 オンライン TDL HF ガス分析装置
☑ ESE-LASER-HF-700 トレースTDL HFガス分析装置(ppb範囲)
| 測定ガス | HCl/HF/NH3 |
|---|---|
| 方法 | 波長可変ダイオードレーザー分光分析装置 (TDLAS) |
| レンジ | HCL/HF: 0-50ppm、0-100ppm、0-500ppm(カスタマイズ) NH3:20ppm以上 |
| 精度 | 積分安定性 (温度と圧力) に応じてフルスケール読み取り値の ± 1% |
| 精度 | 1ppm |
| 表示解像度 | 0.1ppm |
| 応答時間 | 15S以下(ガス流量3L/min時) |
| サンプリングガス温度 | 180℃以上 |
| アナログ出力 | 4~20mA DC、絶縁出力、最大負荷900オーム、 |
| デジタル出力 | RS232 / 485 |
| 電源 | AC90-240V / 50/60Hz 120W |
| ウォームアップ時間 | 30 minutes |
| インタフェース | RS232 |
| 周囲温度 | 温度: -10〜50℃ 湿度: 0〜90%RH |
| 次元 | 760(H)×500(L)×255(W)mm(分析キャビネット) 580(H)×510(L)×220(W)mm(制御盤) |
HF ガス分析計は、サンプルまたは環境内のフッ化水素 (HF) ガスの濃度を測定および分析するために使用されるデバイスです。 フッ化水素は、金属加工、ガラス製造、半導体製造などのさまざまな産業プロセスから発生する、腐食性が高く有毒なガスです。 また、石炭やバイオマスなどの特定の物質の燃焼中にも放出されます。
HF ガス分析計の重要性は次のように要約できます。
HF ガス分析計は、HF 濃度を正確に測定できる TDLAS 技術など、さまざまな測定技術を利用しています。 これらの分析装置は、HF が存在する産業や環境における労働安全、環境保護、緊急時の備えを確保するための重要なツールです。
TDLAS(波長可変ダイオードレーザー吸収分光法)を用いたフッ化水素(HF)ガス分析装置は、他のフッ化水素(HF)ガス分析手法に比べていくつかの利点があります。TDLASベースのHFガス分析装置の利点は以下のとおりです。
TDLAS HFガス分析装置は、高感度、高選択性、高速応答、そして非侵入型のin-situ測定を総合的に実現します。ESEGASは、正確で信頼性の高いHFガス分析が求められる様々な用途に最適な製品を開発しました。
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