SiF4不純物分析ラボ用途向けカスタムHFおよびVOCガス分析装置

ESEGAS社は、カスタマイズされたHFおよびVOCガス分析装置2台の納入を無事完了しました。これらの装置は、四フッ化ケイ素(SiF4)を用いた特殊なラボ用精留カラム用途向けに設計されています。4不純物分析。

HFおよびVOCガス分析装置

ESEGASチームは、このプロジェクトにおいて以下の責任を負います。

実験室の精留塔

サンプルガスはSiFの加水分解プロセスに由来する。4ガス分析装置は、優れた耐腐食性、安定性、測定精度が求められる非常に厳しい分析環境を作り出します。実験室の精留システムには、HFおよびVOCガス分析装置が2台設置されています。これらは、フッ化水素(HF)、全炭化水素(THC)、エタン(C)など、SiF₄中の微量ガス不純物を測定できます。2H6)、およびプロパン(C3H8).

SiF₄関連プロセスガスを取り扱う際の長期的な信頼性を確保するため、HFおよびVOCガス分析装置には特別にカスタマイズされた機能が搭載されています。 ステンレス鋼製内部ガス接触部品この設計により、潜在的な腐食問題を最小限に抑え、過酷な運転条件下でも分析性能を維持することができます。

オンラインTDL HF分析装置は、チューナブルダイオードレーザー吸収分光法(TDLAS)を利用しています。TDLASは、高い選択性、高速応答、腐食性ガス監視用途への優れた適合性で広く知られています。VOCガス分析装置は、 ガスクロマトグラフィーと炎イオン化検出器(GC-FID)複雑なガス流中のVOCを正確に測定するために広く採用されている。

出荷前に、HFガス分析装置とVOCガス分析装置はいずれも工場での試験と性能検証に合格しました。包括的な試験報告書が顧客に提供され、プロジェクト仕様への適合性が実証され、現場での導入に対する信頼性が確保されました。

このカスタマイズされたソリューションは、ESEGASが高度な実験室研究用途向けに、カスタマイズされたHFおよびVOCガス分析装置を2種類提供できる能力を改めて証明するものです。 HFおよびVOCガス分析装置についてさらに詳しく知りたい場合は、ESEGASのYouTubeチャンネルの動画をご覧ください!

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